更新时间:2026-09-10
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真空等离子清洗机是利用低温等离子体活性组分对材料表面进行清洁和改性的设备。YP-ZK20S定位于小规模生产及高校、院校科学实验使用,可用于清洗、活化、提高粘结力和附着力以及刻蚀等工艺,并可根据不同需求配置相应的处理方案。
等离子体是物质的一种状态,也被称为物质的第四态。当气体获得足够能量发生离化后,会形成包含电子、离子、活性基团、激发态粒子以及光子等多种活性组分的等离子体。
YP-ZK20S采用真空腔体处理方式,通过射频电源在一定压力下起辉产生高能量等离子体,使等离子体作用于被处理产品表面,从而实现清洗。
等离子体中的粒子能量一般约为几个至十几个电子伏特,可以破裂聚合物材料表面的部分化学键,使表面发生相应变化;同时,低温等离子体中中性粒子的温度接近室温,因此适用于热敏性高分子聚合物表面改性。
低温等离子体处理后,材料表面可以发生不同的物理和化学变化。
在适宜工艺条件下,材料表面可能产生刻蚀并形成一定粗糙度,也可能形成致密交联层,或者引入含氧极性基团,使表面的亲水性、粘结性、可染色性、生物兼容性以及电性能得到改善。
通过表面处理,还可以使部分材料由非极性、难粘状态转变为具有一定极性、更易粘结和亲水的表面状态,从而有利于后续的粘结、涂覆和印刷等工艺。
YP-ZK20S采用20L真空腔体,工作真空度为10~30Pa。
在真空腔体中,通过13.56MHz射频电源产生等离子体,并利用等离子体对产品表面进行作用。
与常规空气环境下的表面处理方式不同,真空腔体为等离子体处理提供了相应的工艺环境,使设备能够开展资料所述的清洗及表面处理任务。
YP-ZK20S的等离子电源频率为13.56MHz,等离子发生器电源功率为300W,并支持功率调节。
不同处理任务可以根据工艺需要进行参数设置。设备过程控制支持自动和手动两种方式,可以根据实际实验或处理要求进行操作。
气体是形成等离子体的重要工艺条件之一。
YP-ZK20S配置2路浮子流量控制,可通入氩气、氧气、氮气、空气以及氢+氮气混合气体等。
通过不同气体条件,可以配合不同的表面处理任务,为实验和小规模生产提供多样化的工艺条件。
根据产品资料,与传统工艺相比,等离子表面处理技术具有以下特点。
**功能强:**改性主要发生在材料表面,处理深度约为几到几十个纳米,在不改变基体固有性能的同时,可以赋予表面新的功能。
**适用广:**金属、塑料、玻璃及高分子材料等不同类型基材均可进行处理。
**易操作:**工艺相对简单,操作方便,生产可控性强且稳定性高。
**效率高:**处理时间短,反应速率高,处理均匀性好。
**节能、环保:**采用全程干燥处理方式,不消耗水资源,无需添加化学药剂,也不产生污染。
作为一款真空等离子清洗机,YP-ZK20S的主要配置包括:
技术项目 | 参数 |
产品型号 | YP-ZK20S |
控制系统 | PLC+触摸屏 |
等离子电源频率 | 13.56MHz |
等离子发生器功率 | 300W(可调) |
气体路数 | 2路浮子流量控制 |
过程控制 | 自动与手动 |
腔体容积 | 20L |
真空度 | 10~30Pa |
内腔尺寸 | 250×320×250mm |
载物规格 | 240×260mm,共四层 |
外形尺寸 | 600×560×600mm |
可通入气体 | 氩气、氧气、氮气、空气、氢+氮气混合气体等 |
供电电源 | AC220V(±10V) |
YP-ZK20S采用PLC+触摸屏控制系统,同时提供自动和手动两种过程控制方式。
载物空间为240×260mm,共四层,内腔采用316不锈钢材质,腔体容积为20L。
对于高校、院校科学实验以及小规模生产场景,可以根据待处理材料及具体工艺设置相应处理条件。
从工作机制来看,等离子表面处理机并不只是进行表面清洁,还可以通过等离子体活性组分改变材料表面状态。
YP-ZK20S资料中明确列出的工艺包括清洗、活化、提高粘结力、提高附着力及刻蚀。同时,该系列产品可应用于电子、太阳能、汽车、纺织、包装印刷、生物医疗及通用行业。
因此,在选择实验室等离子清洗仪器时,需要重点关注真空腔体、射频电源、功率调节、气体路数、真空度以及过程控制方式等核心配置。
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从技术结构来看,真空等离子清洗机的处理效果与真空环境、射频电源、气体条件和过程控制等因素密切相关。YP-ZK20S采用13.56MHz射频电源、300W可调等离子发生器、2路浮子流量控制及20L真空腔体,真空度为10~30Pa,并支持自动与手动过程控制。
基于低温等离子体表面处理技术,设备可开展清洗、活化、提高粘结力和附着力以及刻蚀等工艺,为小规模生产和科学实验提供相应的表面处理方案。
